光刻机是半导体制造过程中的关键设备，它的主要作用是在硅片上精确地复制电路图案。以下是光刻机的作用和用途的详细说明：

光刻机的作用：

1. 图案转移：光刻机通过光敏性化学品（光刻胶）将掩模（mask）上的电路图案转移到硅片上。
2. 微缩投影：利用光学系统将掩模上的大图案缩小并精确投影到硅片上，以制造出纳米级的精细电路结构。
3. 定义特征尺寸：光刻是定义集成电路中晶体管和其他电子元件尺寸的关键步骤，直接关系到芯片的性能和集成度。

光刻机的用途：

1. 半导体制造：光刻机在集成电路（IC）和微机电系统（MEMS）的制造中至关重要，用于生产如CPU、GPU、存储器等芯片。
2. 微纳加工：在纳米技术领域，光刻机用于制作各种微纳结构，如纳米线、纳米管、微型传感器等。
3. 光学器件：用于制造各种光学器件，如光栅、光学传感器等。
4. 生物医学领域：在生物医学工程中，光刻技术可用于制造微流控芯片、生物传感器等。

光刻技术的发展与半导体行业的发展密切相关，随着技术的进步，光刻机的分辨率不断提高，使得芯片可以集成更多的晶体管，提高性能的同时减小体积。目前，极紫外光（EUV）光刻技术是半导体先进制程的主流技术，它能够实现更小尺寸的电路图案，推动半导体产业向前发展。